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EDI模塊內(nèi)部容易滋生細(xì)菌嗎？

發(fā)布時(shí)間： 2019-06-06

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電去離子（EDI）技術(shù)可以從水源中去除殘留的鹽和可電離的含水物質(zhì)，如二氧化碳、二氧化硅、氨和硼。 EDI系統(tǒng)無(wú)化學(xué)操作，實(shí)現(xiàn)97％水回收，僅消耗電力。EDI模塊可以應(yīng)用在多個(gè)行業(yè)，包括火力發(fā)電廠鍋爐補(bǔ)給水、半導(dǎo)體和微電子行業(yè)用純水、制藥用純化水。

       EDI電流密度的增加以及淡水室中樹脂表面水解離不斷產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子，可使淡水室的局部pH值發(fā)生變化，在特定的地方產(chǎn)生高pH區(qū)和低pH區(qū)。這些極端pH值區(qū)被認(rèn)為是在EDI模塊內(nèi)部創(chuàng)造了一個(gè)特定的有利于抑制細(xì)菌的快速繁殖的環(huán)境，尤其是在產(chǎn)水側(cè)，他們是非常關(guān)鍵的。同時(shí)，由于陰離子交換樹脂表面帶正電荷，而細(xì)菌（尤其是對(duì)制藥用水影響較大的革蘭陰性菌）帶負(fù)電荷，使其易被吸附到陰離子交換樹脂表面，處于水解離最活躍的部位。從而使其生長(zhǎng)受到抑制甚至被殺滅，大大減輕了EDI產(chǎn)水受細(xì)菌內(nèi)毒素污染的程度。

關(guān)于這個(gè)主題的研究已于1990年有Millipore出版，他們發(fā)現(xiàn)一個(gè)周期性消毒的RO-EDI系統(tǒng)細(xì)菌和內(nèi)毒素的數(shù)目并不是很多，EDI流出的數(shù)目和進(jìn)水相似。如果原先實(shí)行的消毒制度停頓三個(gè)月，濃水流中細(xì)菌的數(shù)目就要增加，但是產(chǎn)水中就不會(huì)出現(xiàn)這種現(xiàn)象。他們的結(jié)論是，在EDI模塊中最關(guān)鍵的產(chǎn)水一側(cè)，這些pH值確實(shí)扮演著創(chuàng)造特定生物環(huán)境的重要角色。最好的細(xì)菌消毒方法是保持單元正常運(yùn)行，在這種模式中，細(xì)菌群體不會(huì)增長(zhǎng)，尤其是在產(chǎn)水側(cè)。